분류 전체보기 (39) 썸네일형 리스트형 [PAG]Photo Acid Generator 깔끔하게 이해하기 1. Photo Acid Generator(PAG) PAG는 리소그래피공정의 포토레지스트에 들어가는 산(H+) 발생제입니다. 248nm KrF, 193nm ArF 공정에 주로 들어갑니다. 해당 공정에서는 화학증폭형레지스트(Chemically Amplified Resist)가 사용되어 산을 발생시키는 물질이 필수적으로 필요합니다. 2. 일반적인 PAG의 Structure 책이나 논문에서 대표적인 PAG로 Ph3S(+)-Tf가 사용되는 경우가 많습니다. 이름만 보면 직관적으로 이해가 되지 않는 느낌이 있을텐데요, 하나하나 풀어보면 쉽습니다. 1) Ph3 - Triphenyl group Ph는 페닐 그룹을 이미하고, Tri-는 세 개를 의미합니다. Tri phenyl은 세 개의 페닐그룹을 말합니다. 2) S(.. [노볼락의 응용]I-line 포토레지스트용 폴리머 1. I-line 포토레지스트용 수지 I-line 포토레지스트는 365nm 파장의 리소그래피 공정에 사용되는 포토레지스트 입니다. 가장 큰 특징은 Novolac/DNQ의 용해도 변화 입니다. 알칼리 용액에 불용성인 DNQ가 novolac 수지에 혼합되면, 전체 혼합물은 알칼리 용액에 용해도가 떨어집니다. 하지만 노광 후 DNQ가 carboxylic acid로 변하면 용해되는 메커니즘입니다. ※I-line 포토레지스트의 구성성분과 메커니즘이 궁금하시면 참고 해주세요 https://2zyo1011.tistory.com/14 UP수지와 유리섬유강화 플라스틱 1. UPR - Undaturated polyester resin 폴리에스테르 구조에 불포화 이중결합을 갖고있는 고분자를 '불포화 폴리에스테르'라고 합니다. 이 고분자를 styrene 용액에 50~70wt%로 용해시키면, 점도 100~2000cp범위로 유동성을 갖는 '불포화 폴리에스테르 수지'가 됩니다. UPR은 과산화물의 존재하에서 라디칼 중합을 통해 가교구조를 형성하며 열경화성 고분자가 됩니다. 이런 특성은 성형성이 우수하다는 특징으로 나타납니다. 고분자로 특정한 모양을 만든다는 것, 일반적으로 성형공정이라고 지칭합니다. 그런데 딱딱하게 굳어있는 고분자를 특정한 모양으로 만들기는 쉽지 않습니다. 예를들어 물은 얼음 틀에 따라서 다양한 모양으로 얼릴 수 있습니다. 정육면체, 구, 별 모양 등 틀안에 물.. 코엑스 아쿠아리움: 아들과 함께한 물고기 여행 보호되어 있는 글입니다. 불포화폴리에스테르 수지의 반응과 특징 1. 불포화 폴리에스테르 수지(Unsaturated polyester resin) 1) 정의 - 불포화 폴리에스테르 불포화 폴리에스테르는, 불포화결합(C=C)을 분자구조 내에 가지고 있는 폴리에스테르 고분자입니다. - 불포화 폴리에스테르 수지 불포화 폴리에스테르 수지는, 불포화 폴리에스테르를 styrene에 용해시킨 액상의 고분자 용액입니다. 2) 특징 - 열경화성 고분자 불포화폴리에스테르 고분자 내에 남아있는 불포화 결합은 추가적인 라디칼 반응을 가능하게 만들어 줍니다. solvent로 사용된 반응성 모노머(styrene)와 라디칼 반응을 통해 가교구조를 갖는 열경화성 고분자로 됩니다. - 구조적 특징 일반적인 폴리에스테르와 동일하게 dicarboxylic acid와 dialcohol(glycol)의 .. [숙취해소]숙취 어떻게 이겨내나요? 1. 숙취! 숙취는 술을 많이 마시면 여지없이 찾아오는 증상입니다. 메스꺼움과 두통을 많이 느껴 일상생활에 큰 불편함을 겪습니다. 숙취는 자연스럽게 없어지기까지 하루정도가 걸립니다. 하지만 숙취는 너무 불편해서 그 하루도 고통스럽습니다. 숙취해소, 어떻게 해야지 도움이 될까요? 2. 숙취 해소 방법 숙취를 예방하려면 당연한 것은 '절주' 하는 것이 가장 중요합니다. 술을 조금만 먹으면 숙취도 심하지 않습니다. 그런데 이 글을 보는 대부분의 사람들은 아마도 어제 달리셨을 겁니다. 어젯밤 무리한 음주로 깨질 것 같은 머리를 감싸면서 숙취해소에 도움이 될 방법을 찾고 있는데, "숙취를 예방하는 방법은 절주가 최선입니다^^"라는 글을 본다면 머리가 더 아플 것입니다. 어제 달려서 숙취에 절여져 있는 컨디션 어떻.. ArF(Dry) 포토레지스트 개념과 구조(Positive) 1. ArF 포토레지스트 반도체기술은 항상 미세화를 위해 개선되고 있습니다. 이전의 KrF(248nm) 포토레지스트에서 더 얇은 회로선폭, 고집적화를 이루기 위한 포토레지스트 파장의 변화는 ArF(193nm)로 옮겨갔습니다. 아래의 그림 처럼 패턴의 미세화를 위해서 "리소그래피 공정 파장"을 작게 하고 있습니다. Rayleigh 식에 따라서 패턴의 해상도는 공정파장에 비례하기 때문입니다. ArF laser는 193nm의 파장을 가지는 빛입니다. 다른 파장의 포토레지스트와 마찬가지로 "ArF 포토레지스트"라고 해당 파장으로 부릅니다. 2. ArF 포토레지스트의 특징 포토레지스트는 리소그래피 공정 파장에서 흡광도가 낮아야 됩니다. 모든 포토레지스트 폴리머가 가져야 될 특징입니다. 포토레지스트가 흡광도가 있으.. 말단기 분석법으로 고분자 분자량 계산하기 1. 말단기 분석법의 정의 1) 고분자의 말단에 남아있는 반응 사이트로 부터 고분자의 분자량을 계산하는 방법입니다 2) 일반적으로 선형 고분자에서 말단기가 (-OH) 또는 (-COOH)로 끝나는 고분자의 분자량을 실험적으로 계산할 때 사용됩니다. 3) 아래의 식에 따라서 수평균 분자량(Mn)을 실험적으로 계산할 수 있습니다 - 수평균 분자량은 아래의 수식으로 표현될 수 있습니다. - 수식을 정리하면, 고분자 시료의 전체 무게(g)를 고분자의 몰수(mol)로 나눠주면 수평균 분자량(Mn)을 얻을 수 있습니다. - 말단기 정량법은 실험적인 방법입니다. 시료 몇 g을 정량하는지는 당연히 알 수 있습니다. 최종 적정을 통해 몰 수만 알아내면 계산은 간단하게 끝납니다. 2. 말단기 분석법 계산 예시 1) 폴리에스.. 이전 1 2 3 4 5 다음 목록 더보기
