Novolac DNQ 메커니즘 (1) 썸네일형 리스트형 [Novolac/DNQ]용해도 변화 원리 1. I-line 포토레지스트 I-line 포토레지스트는 Novolac resin과 PAC(Photo acid compound)의 chemistry입니다. PAC로는 DNQ(diazonaphtoquinone)유도체를 사용합니다. Novolac resin에 DNQ를 혼합하면 알칼리 현상액(tert-methyl amonium hydroxide, TMAH 2.38% solution)에 용해도가 낮아지게 됩니다. 위 그래프는 Novolac resin의 dissolution rate을 세 단계로 표현한 그래프입니다. 각 구간별 내용은 아래와 같습니다. ① : Novolac resin 단독 Novolac resin은 TMAH 2.38% solution에 약 100Å/sec의 dissolution rate을 가지고 .. 이전 1 다음
